ECP est sur le point de finaliser un projet de R&D qui fait évoluer l’état de l’art dans la décontamination : le nettoyage à 50 nanomètres. Cette ligne de nettoyage est capable d’atteindre des spécifications très poussées auquelles les procédés de nettoyage conventionnels ne peuvent pas répondre. L‘objectif fixé est plus de 50 fois inférieur à nos spécifications actuelles.Ces exigences correpondent aux spécifications issues des technologies semiconducteur 450 mm et des procédés de photolithographie EUV.ECP sera clairement être un des premiers prestataires de service en Europe à atteindre ce niveau de nettoyage.
